德國蔡司：中國EUV技術估落後15年 西方仍遙遙領先

荷蘭艾司摩爾(ASML)的供應商，德國光學大廠蔡司集團(Zeiss Group)半導體部門主管羅蒙德(Frank Rohmund)表示，中國在最尖端晶片製造設備領域仍明顯落後，可能還需要約15年才能研發出極紫外光(EUV)曝光機設備。羅蒙德表示，目前蔡司與ASML仍掌握關鍵技術，並維持大幅領先優勢。

《彭博新聞》報導，羅蒙德(Frank Rohmund)接受彭博電視訪問時表示，推測中國可能需要15年才能研發出極紫外光(EUV)微影設備，是一項「合理的假設」，但他也指出，中國的實際研發狀況與進度很難量化。

與瑞銀團隊分析趨勢一致

德國蔡司是荷蘭ASML生產EUV曝光機所用光學元件的獨家供應商，而ASML則是全球唯一一家EUV曝光機的製造商。EUV技術對於生產輝達(Nvidia)人工智慧(AI)晶片至關重要。

隨著美中兩大經濟體競相研發尖端人工智慧(AI)模型，晶片製造技術已成為美國阻止中國取得頂尖AI晶片的關鍵管制目標。美國禁止持有蔡司股權的ASML向中國出口最先進的晶片製造設備，為此，北京也正投入巨額資金扶植本土半導體產業，力拚實現晶片自主供應。

而在羅蒙德的評估出爐前，瑞銀(UBS)分析師布維尼(Francois-Xavier Bouvignies)帶領的團隊，日前也才在報告中指出，中國可能至少還需要10年，才能研發出國產EUV技術。

中國是ASML前一代深紫外光(DUV)曝光機的的主要市場之一。美國目前也要求ASML出口多款較先進的浸潤式DUV設備時，必須取得許可證。

《The Information》今年7月引述不具名知情人士報導曾指出，中國在製造浸潤式DUV微影設備方面已取得進展，並稱上海一家公司正生產這類設備。

北京研發EUV不意外 但性能才是問題

羅蒙德表示，北京數十年來一直投入相關技術研發。談到近期中國取得進展的相關報導時，他說：「這其實並不令人意外，現在我們需要觀察這些設備的實際性能究竟如何。」但他補充：「我們仍然遙遙領先。」

不過羅蒙德也認為，若將出口管制進一步擴大至較舊式的DUV設備，將不利企業營運。羅蒙德表示：「我們不認為這些出口限制能帶來正面影響，因為這反而會加速中國的創新。」

蔡司表示，全球約80%的晶片在生產過程中使用該公司的零組件。艾司摩爾在2017年也斥資10億歐元、約12億美元(約新台幣380億)收購蔡司半導體事業部少數股權。同時為因應AI熱潮帶動的晶片需求，蔡司也已擴建位於德國奧伯科亨(Oberkochen)的總部，增加生產設施及產能，並正在另一處基地興建新工廠。

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