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中國工博會 上海新創廠商展出研製EUV樣機
正在中國上海舉行的中國國際工業博覽會上，一家上海新創廠商低調展出7奈米以下最先進製程晶片所需極紫外光(EUV)微影設備樣機。
美國對中國實施先進技術出口管制，中國則由政府主導突破限制。其中，美國阻止荷蘭艾司摩爾(ASML)向中國出口EUV微影設備後，中國自行開發深紫外光(DUV)微影設備，以提升先進製程競爭力。
而生產最先進晶片所需的EUV，目前仍是由艾司摩爾壟斷市場。因此在傳出中國研發自製生產EUV後，研發進度一直是外界關心的話題。
在工博會亮相的這台大型EUV樣機，未放在與積體電路相關的熱門展館，而是低調置於創新科技館內上海市專屬展區中。面對媒體記者詢問細節，現場人員一概以不接受訪問拒絕。
據研製廠商朗道科技在...
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