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國研院攜手汎銓突破檢測瓶頸 助攻先進製程材料驗證
國研院攜手汎銓科技打造下一世代半導體材料分析技術平台,在奈米結構表面形成保護層,解決傳統檢測易造成結構損壞等問題,汎銓目前已打入前三大設備供應鏈。國研院表示,平台提供材料分析與檢測等一站式服務,不但提升作業效率,也為2奈米世代量產提供關鍵技術,奠定台灣半導體業關鍵的技術優勢。
國研院轄下國儀中心與汎銓合作,針對高數值孔徑極紫外光微影(High-NA EUV)使用的金屬氧化物光阻劑(MOR),開發鍍膜與分析技術,降低後續檢測過程對奈米結構造成的損傷。國研院表示,這是全球首度成功應用於相關製程的鍍膜技術,有助克服材料分析瓶頸。
國研院國儀中心自2004年起發展原子層沉積(ALD)技術,累積超過20年經驗,涵蓋原型機測試...
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